SJ/Z 3206.13-1989 半导体材料发射光谱分析方法通则

内容简介

本标准适用于锗、硅、砷化镓、磷化铟和锑化铟等半导体材料发射光谱分析方法的一般通则，其内容包括基本原理、仪器、标准溶液配制、样品处理方法、摄谱条件的选择、以及有关的一般规定。

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