GB/T 43227-2023 宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法

Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire

GB/T 43227-2023

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  • 标准名称:宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法
  • 标准号:GB/T 43227-2023
  • 发布日期:2023-09-07
  • 实施日期:2024-01-01
  • 中国标准号:A29
  • 国际标准号:49.040
  • 代替标准:
  • 技术归口:全国宇航技术及其应用标准化技术委员会
  • 主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:航空器和航天器工程有关航空航天制造用镀涂和有关工艺

内容简介

国家标准《宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法》由TC425(全国宇航技术及其应用标准化技术委员会)归口,TC425SC2(全国宇航技术及其应用标准化技术委员会宇航电子分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。

起草单位

北京微电子技术研究所、中国航天电子技术研究院、

起草人

赵元富、 姚全斌、 荆林晓、 李洪剑、 曹燕红、 刘思嘉、 林鹏荣、冯小成、付明洋、林建京、刘征宇、

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