GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
GB/T 14849.4-2008
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标准GB/T 14849.4-2008标准状态
- 发布于：2008-06-09
- 实施于：2008-12-01
- 废止
内容简介
国家标准《工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。
起草单位
中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等、
起草人
李跃平、 石磊、 张树朝、
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