GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法

Test method of particles on silicon wafer surfaces

GB/T 19921-2005

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标准GB/T 19921-2005标准状态

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  • 标准名称:硅抛光片表面颗粒测试方法
  • 标准号:GB/T 19921-2005
  • 发布日期:2005-09-19
  • 实施日期:2006-04-01
  • 中国标准号:H17
  • 国际标准号:77.040.01
  • 代替标准:被GB/T 19921-2018代替
  • 技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 主管部门:中国有色金属工业协会
  • 标准分类:冶金金属材料试验金属材料试验综合

内容简介

国家标准《硅抛光片表面颗粒测试方法》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,主管部门为中国有色金属工业协会。
本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。 本标准适用于硅抛光片,也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。 本标准也可适用于观测硅抛光片表面的划痕、橘皮、凹坑、波纹等缺陷,但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能,并与检测时的初始设置有关。 注:本标准涉及的方法通常选用波长(48~6 33)nm的激光光源,最常用的是488nm的氩离子激光器;目前可测量的最小值颗粒直径为0.06μm或更小些。

起草单位

北京有色金属研究总院、

起草人

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